Физическая энциклопедия - ионное внедрение
Ионное внедрение
ионное внедрение
(ионное легирование, ионная имплантация), введение посторонних атомов внутрь тв. тела бомбардировкой его поверхности ионами. Ср. глубина проникновения ионов в мишень тем больше, чем больше энергия ионов (ноны с энергиями ?и=10-100 кэВ проникают на глубину 0,01-1 мкм). При бомбардировке монокристаллов глубина проникновения ч-ц вдоль определ. кристаллографич. осей может быть во много раз больше, чем в др. направлениях (каналирование частиц). При интенсивной бомбардировке И. в. препятствует катодное распыление мишени, а также диффузия внедрённых ионов к поверхности и их выделение с поверхности (ионно-ионная эмиссия). Существует максимально возможная концентрация внедрённых ионов, к-рая зависит от хим. природы иона и мишени, а также от темп-ры мишени. И. в. позволяет вводить в полупроводниковые материала точно дозированные кол-ва почти любых хим. элементов. .
Рейтинг статьи:
Вопрос-ответ:
Похожие слова
Ссылка для сайта или блога:
Ссылка для форума (bb-код):
Самые популярные термины
1 | 500 | |
2 | 417 | |
3 | 410 | |
4 | 405 | |
5 | 394 | |
6 | 394 | |
7 | 393 | |
8 | 385 | |
9 | 380 | |
10 | 376 | |
11 | 375 | |
12 | 366 | |
13 | 362 | |
14 | 361 | |
15 | 359 | |
16 | 359 | |
17 | 358 | |
18 | 356 | |
19 | 351 | |
20 | 343 |