Энциклопедический словарь нанотехнологий - фоторезист

Термин на английском

Синонимы

Аббревиатуры

Связанные термины

литография, травление в литографииОпределение

светоили рентгеночувствительный материал на полимерной основе, используемый для нанесения пленочного покрытия на подложку в литографическом процессе путем его облучения (экспонирования) через маску с проекциями элементов электронной схемы и последующего проявления (травления в растворителе) так, что изображение схемы переносится на подложку.Описание

В зависимости от характера изменения структуры и свойств в результате облучения, фоторезисты делят на негативные и позитивные. Если в результате облучения пленка полимеризуется и теряет растворимость, то обработка растворителем (проявление) ведет к удалению только необлученных участков, и на подложке возникает негативное изображение маски. Соответствующие фоторезисты называются негативными. Если после облучения фоторезист становится растворимым, то при облучении через маску и последующем проявлении удаляются облученные участки, и на подложке возникает позитивное изображение маски. Такие фоторезисты называют позитивными. Позитивные фоторезисты позволяют более точно передавать мелкие геометрические детали изображения по сравнению с негативными. Позитивные фоторезисты изготовляют из фенолоили крезолоформальдегидной смолы с о-нафтохинондиазидом, негативные из поливинилового спирта с солями хромовых кислот или циклизованного каучука с добавками, вызывающими “сшивание” макромолекул при облучении.

• Гусев Александр Иванович, д.ф.-м.н.

Разделы

Оптическая литография

Управляемые методы формирования наноструктур